EDI即Electrodeionization的縮寫，它是一種將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)結(jié)合在一起的脫鹽新工藝。

1986年商用EDI出現(xiàn)于制藥行業(yè)

★二十世紀九十年代大型商用EDI開始在化學(xué)和半導(dǎo)體行業(yè)被使用

★新一代EDI設(shè)備誕生于1997年

★進入2000年以來，在北美及歐洲EDI已占據(jù)了超純水設(shè)備相當(dāng)部分的市場

★自2005年,EDI在國內(nèi)得到越來越廣泛的認可和應(yīng)用。

水處理工業(yè)的**

連續(xù)電除鹽裝置和傳統(tǒng)離子交換相比，EDI 所具有的優(yōu)點：

☆無再生污水及污水處理設(shè)施

☆節(jié)省反沖和清洗用水，高產(chǎn)率生產(chǎn)超純水

☆EDI 再生時不需要停機

☆提供穩(wěn)定的水質(zhì)

☆耗能低

☆操作管理方便，勞動強度小

☆安裝簡單，運行、維護費用低廉

☆濃水可做軟化水，提高了水的利用率

EDI 組件結(jié)構(gòu)

Ø淡水室 

Ø濃水室

Ø極水室 

Ø絕緣板

Ø電源及水路連接

EDI高純水設(shè)備進水條件

以下是保證EDI正常運行的*低條件，為了使系統(tǒng)運行結(jié)果更佳，設(shè)計時應(yīng)適當(dāng)提高標準。

給水：RO純水，電導(dǎo)率為1-40μS/cm（以25度時NaCl溶液計）。一般應(yīng)經(jīng)過單級反滲透+軟化或者雙級反滲透處理。
TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計）：<25ppm.

pH ：6.0～9.0（*佳電阻率性能對應(yīng)的pH范圍為 7.0～9.0  ）。

溫度： 5-35°C（41-95°F）。

進水壓力：*大為4bar（60psi）。

出水壓力：濃水和極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品水的出口壓力。

硬度（以CaCO3計）：進水硬度<0.1 ppm，回收率是95%；進水硬度0.1-0.5 ppm，回收率是90%；進水硬度0.5-0.75 ppm，回收率是80-85%；當(dāng)入水硬度為0.75-1ppm時，需要得到廠家認可 。

有機物：*大為0.5 ppm TOC，建議值為零。

氧化劑：*大為0.05 ppm(Cl2)，0.02 ppm(O3)。

變價金屬：Fe*大為0.01 ppm，Mn*大為0.01 ppm。

二氧化硅 ：小于0.5 ppm。

二氧化碳的總量：二氧化碳含量將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。如果CO2 大于10 ppm， EDI系統(tǒng)不能制備高純度的產(chǎn)水。可以通過調(diào)節(jié)反滲透進水 pH 值或使用脫氣裝置來降低CO2 量。

EDI高純水設(shè)備調(diào)試

Ü準備工作

•如果采用了脫氣、RO+軟化工藝，必須做好著以下兩部分的調(diào)試工作

Ü準備工作

   脫氣注意事項：

如果采用脫氣膜+吹氣方式時，必須對空氣進行0.22um**過濾

Ü準備工作

當(dāng)采用RO+軟化+EDI的方式時，必須對樹脂的進行清洗處理，方法如下：

水洗，3%HCl浸泡24小時

水洗，1%NaOH+5%NaCl浸泡24小時

水洗，3%HCl浸泡24小時

正常再生

注意：再生時鹽的鐵錳含量必須低于5ppm

 Ü開機準備

•仔細閱讀操作手則。

•檢查系統(tǒng)管路，保證連接正確、完畢。

•檢查電路系統(tǒng)，保證連接正確、完畢。

•檢查儀表系統(tǒng)，保證連接正確、完畢

•調(diào)試給水泵及濃水泵。

•逐個調(diào)試整流單元

•校準、設(shè)置儀表

•調(diào)試自動控制系統(tǒng)及各流量、壓力開關(guān)

•上述工作完成后，用水沖洗系統(tǒng)管路，準備系統(tǒng)開機。

注意：上述所有過程膜組件都必須處于斷電狀態(tài)

Ü系統(tǒng)啟動

1、開EDI系統(tǒng)控制電源。

2、啟EDI給水泵

3、察EDI入水電導(dǎo)率，超過設(shè)定值時，自動排放，如合格，入水電閥打開，排水電閥關(guān)閉，如不符合以上描述，需檢查電導(dǎo)儀，并重新設(shè)置

4、慢打開濃水補水閥，待水充滿濃水室后，打開濃水排氣閥，當(dāng)有大量水連續(xù)排除時，關(guān)閉排氣閥

5、啟濃水循環(huán)泵

6、純水、濃水、極水管道實行脈沖供水以進一步從EDI系統(tǒng)中排出空氣

7、節(jié)純水流量、濃水流量、濃水排放流量、極水流量達到設(shè)計范圍  

8、EDI電源打開,使EDI盡快供電.

9、節(jié)純水入口壓力比濃水入口壓力高0.3-0.5kg/cm2，純水出口壓力比濃水出口壓力高0.5-0.7 kg/cm2.避免濃差滲透影響產(chǎn)水水質(zhì).

10、節(jié)濃水電導(dǎo)率在300us/cm左右.  

11、節(jié)電流至規(guī)定值,且設(shè)置至電流模式.

12、運行記錄表,做詳細記錄

12. 

Ü系統(tǒng)關(guān)機

1、EDI模塊電源“電流調(diào)節(jié)”至“0”,然后關(guān)斷

2、斷EDI給水泵、濃水循環(huán)泵電源

3、閉EDI系統(tǒng)控制電源

EDI高純水設(shè)備停機維護

Ü短期停機

1、須關(guān)斷電源供電

2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵

3、水閥、出水閥必須關(guān)閉

4、組件不脫水干燥

Ü短期停機

1、須關(guān)斷電源供電

2、須關(guān)斷給水泵、濃水循環(huán)泵、加鹽泵

3、水閥、出水閥必須關(guān)閉

4、組件不脫水干燥

膜塊維護

Ü初次使用

 組出廠前,螺母已扭好,運行之前如果發(fā)現(xiàn)個別螺母有松動,應(yīng)將所有螺母再次調(diào)整到20 ft-1bs,*大不超過25 ft-1bs.

Ü長期維護

定期檢查螺拴扭矩,必要時作調(diào)整

系統(tǒng)清洗

Ü濃水側(cè)結(jié)垢清洗

方法1   5%檸檬酸溶液

方法2   3%HCL溶液

Ü淡水側(cè)結(jié)垢清洗

方法   1%NaOH+5%NaCl溶液

Ü**清洗

方法   1% 過氧乙酸溶液

EDI高純水設(shè)備調(diào)試與維護：故障分析

Ü產(chǎn)水水質(zhì)差

1. 原因：濃水出入口壓力與純水出入口壓力接近處理方法，節(jié)至標準要求2. 現(xiàn)象：電壓較高而電流很低

原因:正負極接反

   處理方法:切斷電源,核對接線

3. 現(xiàn)象:產(chǎn)水水質(zhì)差,而入水電導(dǎo)率顯示較低

原因:檢測入水,CO2是常見影響因素

   處理方法：脫氣

4. 原因：電流較低

處理方法：調(diào)節(jié)至標準要求

5.現(xiàn)象：電流不變，電壓較運行初期升高

原因:  膜組件污染

   處理方法:清洗

6.原因:儀表故障

   處理方法：檢修儀表

極水流量低

1. 原因：入口壓力較低

處理方法：調(diào)節(jié)至標準要求

2. 現(xiàn)象：投運初期，流量過低

原因:   碎屑堵塞

   處理方法:反向沖洗

3.原因:膜組件發(fā)生污染

處理方法：清洗

Ü濃水流量低

1、原因：入口壓力較低

處理方法：調(diào)節(jié)至標準要求

2、現(xiàn)象：投運初期，流量過低

原因:   碎屑堵塞

   處理方法:反向沖洗

3、原因:膜組件發(fā)生污染

   處理方法：清洗