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去離子水設(shè)備--EDI膜塊再生
日期：2025-02-05 16:57
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摘要：
去離子水設(shè)備--EDI膜塊再生:EDI系統(tǒng)運(yùn)行過(guò)程中，因進(jìn)水水質(zhì)波動(dòng)或EDI電源故障等因素造成EDI系統(tǒng)的膜塊內(nèi)部的樹脂被離子消耗盡的時(shí)候，就會(huì)影響到產(chǎn)水水質(zhì)，為了使EDI膜塊恢復(fù)初始性能狀態(tài)，這時(shí)需要再生處理。EDI模塊再生過(guò)程就是將樹脂中多余的離子帶出膜塊，通過(guò)在短時(shí)間內(nèi)大幅度地改變系統(tǒng)操作參數(shù)，將樹脂中多余的離子從淡水室遷移到濃水室，從而被濃水帶出EDI膜組件。
一般調(diào)節(jié)系統(tǒng)的水量及運(yùn)行電流，提高電流至運(yùn)行電流的150%-200%（不得超過(guò)6A），水量減少1/3，然后運(yùn)行膜塊。再生處理時(shí)需留意以下技術(shù)參數(shù)：1、運(yùn)行電流在規(guī)定范圍內(nèi)；2、進(jìn)水水質(zhì)滿足要求；3、確保進(jìn)水壓力在規(guī)定范圍之內(nèi)；4、確保進(jìn)水流量尤其是極水流量不低于要求；5、確保淡水、濃水進(jìn)水壓力遞減。
再生過(guò)程中EDI產(chǎn)水水質(zhì)開始會(huì)有所下降，隨著再生的不斷進(jìn)行產(chǎn)水水質(zhì)會(huì)緩慢回升，繼續(xù)運(yùn)行4-20小時(shí)，水質(zhì)恢復(fù)后此時(shí)EDI膜塊完成再生，出水水質(zhì)恢復(fù)正常水平，調(diào)整技術(shù)參數(shù)至正常操作參數(shù)。
